物質創製
- SiC薄膜・グラフェン作製用ガスソースMBE装置（自作，三台）
- 高周波加熱誘導装置（自作，グラフェン反応炉一号機）
- 高周波加熱誘導装置（自作，グラフェン反応炉二号機 ２インチウエハー対応）
- Si CVD装置
- 金属スパッタ蒸着装置
- Si酸化炉（自作）
- 赤外線ランプアニール装置
- 卓上型電気炉
物性評価
- MBE-LEED-XliS-UliS-STM 複合表面界面解析装置
- 赤外分光法
- Raman顕微鏡
- 分光エリプソメトリー
- 紫外・可視吸収分光装置
- 原子間力顕微鏡（二台）
電気計測
- DC I-V測定装置
- liulsed I-V測定装置
- 高周波（Sパラメータ）電気測定装置
デバイス作製・解析用 など
- デバイス作製用CADソフト
- Igor（PC六台分）
共同利用装置
- ナノ・スピン実験施設にて，フォトリソグラフィおよび電子ビームリソグラフィを利用させていただき，先端デバイス開発を行っています。
- SPring-8 BL07 LSU, BL17SU, BL25SU，KEK-PF BL2，東大物性研 LASORなどの共用装置も有難く使用させていただいております。